AMD – pirmie soļi uz 22 nm tehnoloģiju

[samurajs]

[imgl]https://notepad.lv/bildes/atteli/20080228203157157.jpg[/imgl]Kompānija AMD kopīgi ar IBM prezentējusi mikroshēmu, kuras apakšējais metālisko savienojumu slānis pilnībā izgatavots ar īsviļņu ultravioleto staru (EUV) 22nm tehnoloģiju. Pārējie mikroshēmas slāņi pagaidām izveidoti 45 nm tehnikā. Tagad zinātniekiem jānoskaidro, vai “cieto” ultravioleto staru EUV litogrāfija derēs visu slāņu izgatavošanai. EUV lieto neredzamās gaismas starus ar viļņa garumu tikai 13.5 nm, kamēr patlaban litogrāfijas procesos lieto daudz garāku vilni – 193 nm.

Sākumā tranzistorus uz kristāla izgatavoja AMD rūpnīcā Drēzdenē, pēc tam IBM laboratorijā ASV ar skanera palīdzību uzklāja starpsavienojumu kārtu ar EUV tehnoloģiju. Pēc AMD projektu vadītāja doktora Bruno La Fontaine vārdiem – vēl ejams tāls ceļš, bet ja viss notiks pēc plāna, tad 2016. gadā AMD pāries uz 22 nm tehnoloģiju, kas nozīmē vēl daudz vairāk tranzistoru uz kristāla, un lielāku ātrdarbību.

[img]https://notepad.lv/bildes/atteli/2008022820323157.jpg[/img]

Avots: https://www.cnews.ru/news/top/index.shtml?2008/02/28/289993

[Autors]

Ieraksti